Размещение завершено
Высокотемпературный кремниевый источник
Запрос цен
№ ░░░░░░░░░░░░░░░░░░░
опубликован 30.03.2023 11:29 (мск)
перейти на ЭТП
Высокотемпературный кремниевый источник с максимальной температурой отжига не ниже 1800°С, который будет использоваться в установке аммиачной МЛЭ Compact-21(NH3) при синтезе A3-нитридных гетероструктур.
Начальная цена контракта
сумма не задана
Порядок размещения
время МСК
44-ФЗ, Запрос цен,
перейти на ЭТП
Предоставление ценовой информации
30.03.2023 12:00
– 03.04.2023 12:00
Предполагаемые сроки проведения закупки
01.04.2023
– 01.04.2023
Документы
Заказчик
░░░░░░░░░░░ ░░░░░░░░░░░░░░░ ░░░░░░░░░ ░░░░░░░░░░ ░░░░░ ░░░░░░░░ ░░░░░░ ░░░░░░░░░░░░░░░ ░░░ ░░░░ ░░░░░░░ ░░░░░░░░░░ ░░░░░░░░░ ░░░░░░░░░░ ░░░░░░░░ ░░░░
ИНН-КПП
░░░░░░░░
– ░░░░░░░░
Требования к гарантийному сроку
12 месяцев с даты поставки
Условия поставки
Поставляемое оборудование должен быть новым, которое не было в употреблении, в ремонте, не были восстановлены потребительские свойства.
Оборудование должно поставляться в упаковке производителя, упаковка должна обеспечивать сохранность
Оборудования при транспортировке и погрузо-разгрузочных работах к конечному месту эксплуатации.
Порядок оплаты
Безналичный расчет, оплата оборудования осуществляется в течение 7 (семи) рабочих дней с даты подписания электронного документа о приемке Оборудования.
Объекты закупки
| Наименование | Кол-во |
|---|---|
|
Высокотемпературный кремниевый источник ОКПД2 28.99.20.000 Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев |
░ ░░ |
Похожие закупки