Размещение завершено
Параметры NRE500.1 Негативный резист для электронной литографии на основе водородного силсеквиоксана Растворитель: МИБК Сушка при температуре 150°С, 2 мин Толщина при нанесении 2000 об/мин – 100 нм Проявитель: 2,38% TMAH 120 с Чувствительность: 2500 мкКл/см2 Разрешение: 6-10 нм Тара: бутылка 100 мл
Наименование | Кол-во |
---|---|
26.11.22.110: Фоторезисторы ОКПД2 26.11.22.110 Фоторезисторы |
░ ░░░ |